熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測(cè)試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)控制、安全連鎖，以及多級(jí)密碼授權(quán)訪問(wèn)保護(hù)的功能。它可以用于超過(guò)24小時(shí)的圈子全自動(dòng)熱、冷循環(huán)情況下測(cè)試器件/樣品，溫度條件通過(guò)程序定義。該系統(tǒng)通常的應(yīng)用之一是太空模擬。系統(tǒng)腔體的大致尺寸為：直徑24"，長(zhǎng)度43"。帶有一個(gè)16"x32"的滑動(dòng)加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺(tái)也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個(gè)平臺(tái)的溫度均勻度可達(dá)/-1攝氏度。加熱平臺(tái)安裝在滾軸上，可以方便拉出至大到75%的長(zhǎng)度，腔體提供20個(gè)RF連接頭，尺寸為2.92mm，可以支持高達(dá)40GHz的頻率。腔體的兩側(cè)分別有一個(gè)50針的引線。真空系統(tǒng)包含HiPace1200（1000L/s抽速）渦輪分子泵以及一個(gè)ISP500干泵，系統(tǒng)的極限真空可達(dá)7x10-8Torr，20分鐘內(nèi)可達(dá)到10-6Torr級(jí)別。

　　熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備的特點(diǎn)：

　　1.滑動(dòng)式加熱平臺(tái)的面積為16”x32”，可冷卻到-1000C

　　2.熱平臺(tái)可加熱到1500C，去邊3cm后平臺(tái)的熱均勻度可達(dá)±10C

　　3.熱平臺(tái)安裝在滾動(dòng)軸上，可以拉出總長(zhǎng)度的75%，便于器件/樣片放置取出

　　4.腔體提供20個(gè)RF連接器，尺寸為2.92mm，可以支持到40GHz的頻率

　　5.提供2個(gè)50pin的DC直流引線，分別位于腔體的兩端

　　6.真空系統(tǒng)包含渦輪分子泵和干泵

　　7.極限真空7x10-8Torr，20分鐘以?xún)?nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別